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磁控溅射镀膜设备
磁控溅射镀膜设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
磁控溅射设备应用
磁控溅射设备参数
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磁控溅射镀膜设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
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